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探讨“高纯冶金硅非气相法提纯技术”

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发表于 2010-3-17 11:00:10 | 显示全部楼层 |阅读模式
探讨“高纯冶金硅非气相法提纯技术”各位同行,我想探讨下目前太阳能级硅的物理提纯方法。 请问国内现在提纯状况如何? 在从金属硅到6N多晶提纯过程中,各家所用到的理论都差不多,但是关键的步骤,似乎还掌握不够。 比如,高文秀的那些手段,好像很多都是行不通的,也不知道他们到底做得怎么样了,听说做到了5N,具体如何不知道。 晶鑫的,听说只做到4--5N。 而新日铁通过多次区融提纯的工艺,似乎也还没有音讯了。 另外,通过电子束除P,是否真能去干净?而在量产工艺中,如果涉及到电子束的大规模应用,好像不是很现实,因为成本过高了。氧化精炼的部分,等离子需要用的气体成分与配比要求以及相关的因素水平是否在某些不经意的细节上? 实验室和量产工艺的关系,似乎实验室做出来后,还不能稳定工艺,更是谈不上量产。 不知道各位高人对上面的问题有何看法?希望能交流一下。 我的email: lerzone@163.com 欢迎大家交流冶金法的技术。
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